12月29日,由中国美术学院书法学院、中央美术学院书法学院、中国艺术研究院篆刻院共同主办、《书法》杂志协办、恒庐美术馆承办的“镜相·印象——当代镜铭风格篆刻创作(国际)学术提名展”在杭州恒庐美术馆开幕。
展览邀请了来自中国内地、香港与澳门以及日本、马来西亚等国家和地区的篆刻名家参与本次专题展览与研讨,进行一次基于古代镜铭风格的篆刻创作,及印学理论综合、系统、全面的展示和学术探讨,希望能为当下篆刻艺术创作带来一些新的思考和方向。
开幕式上,中国美术学院书法学院党委书记、副院长沈乐平,中央美术学院书法学院院长徐海, 西泠印社副秘书长、中国书法家协会篆刻委员会副主任、中国艺术研究院篆刻院研究员范正红,马来西亚篆刻协会会长、西泠印社名誉社员刘创新先后致辞、讲话。
参展作者(55位)上下滑动,查看完整名单
(按照年龄排序)
在本次展览以“古代镜铭”为主题,以两汉镜铭文字为参照,从以往的“泛”篆刻展,转向专题性展览。
两汉铜镜文字,正处于篆、隶书向楷书演变的时期,是古今文字转变的关键节点,在文字发展史上具有重要价值与研究意义。与汉碑、汉简、汉砖、汉瓦、汉印相比,汉镜铭文以多样的风格、丰富的内容以及精巧的刻画,为我们打开汉代书法的又一宝库。
当天下午还举行了“当代镜铭风格篆刻创作学术提名展学术研讨会”。与会嘉宾们就镜铭文字与玺印篆刻文字的共通性、镜铭文字艺术价值的再挖掘、篆刻教学中如何引导学生更好地利用出土文字资料,以及进一步加强高校间交流等议题进行了发言。
展览图录《镜相·印象——当代镜铭风格篆刻创作(国际)学术提名展作品集》同步首发。
《镜相·印象——当代镜铭风格篆刻创作(国际)学术提名展作品集》
💡
点击封面,跳转购书
或扫描下方二维码购买
本平台以弘扬中华优秀传统文化为宗旨,部分文章源自网络。网络素材无从查证作者,若所转载文章及图片涉及您的版权问题,请您及时与我们取得联系。admin@cn5v.com